Самосборка сделает микросхемы меньше

Самосборка сделает микросхемы меньше

7795

Фото: © wikipedia.org

Чтобы преодолеть ограничения существующих методов производства микросхем, их следует изготавливать не обычной литографией, а управляемой самосборкой.

Исследователи из Массачусетского технологического института и Чикагского университета (оба — в США) предложили новый способ изготовления микросхем с деталями размером менее 10 нанометров. Обычные технологии, используемые в электронике сегодня, для такой размерности подходят мало. Новый метод основан на самосборке компонентов микросхем из блок-сополимеров. Соответствующая статья опубликована в Nature Nanotechnology.

Чтобы делать компоненты микросхем меньше 10 нанометров, когда фотолитография уже не справляется, можно "научить" эти компоненты самосборке

Новая технология создания микросхем вначале использует стандартный метод фотолитографии, чтобы создать "грубую основу" для дорожек и компонентов микросхем. Подложку покрывают фоторезистом, затем его обстреливают фотонами видимого света. Под их действием материал фоторезиста деградирует, и поэтому его легко убирают травлением. Затем на полученную основу осаждают блок-сополимеры. Это такие сополимеры, чьи макромолекулы состоят из регулярно чередующихся однородных блоков, различающихся по составу. В данном случае всего два вида блоков. Один из них склонен сцепляться с другими полимерами, а другой, напротив, не склонен.

Затем методом химического парофазного осаждения на блок-сополимерный слой наносят защитный полимер. Один из блоков блок-сополимера вынужден присоединиться к верхнему слою полимера, и это заставляет все блок-сополимерные макромолекулы занять одну и ту же "стоячую" (вертикальную) позицию. Из-за заранее заданных размеров макромолекул они образуют тонкие вертикальные слои одинаковой толщины. На одну дорожку "грубой основы", сделанной методом фотолитографии, получается четыре тонких слоя таких макромолекул. В итоге размер получаемого компонента микросхемы вчетверо меньше, чем если бы её делали одной фотолитографией.

Сегодня микросхемы для электроники производят в основном методами фотолитографии. Однако она хорошо работает только до тех пор, пока размер изготавливаемого компонента микросхемы не начинает приближаться к длине волны света, используемого для облучения фоторезиста. Потом световая волна становится слишком большой для "тонкой работы", поэтому компоненты микросхем выходят слишком неточно выполненными. Новый способ позволяет создавать более мелкие компоненты в обход проблем традиционной фотолитографии. При этом его можно реализовать на уже применяющемся в современной радиоэлектронной промышленности оборудовании без его дорогостоящей замены.

  • Популярные
  • По времени
Похоже, что вы используете блокировщик рекламы :(
Чтобы пользоваться всеми функциями сайта, добавьте нас в исключения!
как отключить
×
Скачайте в App Store
#Первые по срочным новостям!
Загрузите на Google Play
#Первые по срочным новостям!