Россия и Белоруссия создали первый литограф на 130 нанометров

Россия и Белоруссия совместно изготовили опытный образец литографической установки на 130 нанометров для массового производства широкого спектра микросхем, которые составляют основу промышленной, транспортной и бытовой электроники. Об этом заявил первый вице-премьер РФ Денис Мантуров на пленарной сессии форума «Микроэлектроника» в Сириусе. Для установки также разработали собственный эксимерный лазер.

«Совместно с нашими белорусскими друзьями уже изготовлен опытный образец установки на 130 нанометров, причём для неё разработан собственный эксимерный лазер, что позволило России войти в узкий круг стран, владеющих этой технологией», — сказал Мантуров.

Параллельно Россия развивает электронно-лучевую литографию, которая применяется в том числе при производстве фотошаблонов для микросхем. В Зеленограде завершается создание специализированного научно-технологического центра, где планируется поэтапно осваивать технологические нормы вплоть до 28 нанометров.

По словам Мантурова, за последние три года российские предприятия также освоили выпуск около 60 критически важных материалов и химических продуктов для микроэлектроники. Ещё примерно столько же позиций власти рассчитывают вывести на рынок к 2029 году.

Ранее на Восточном экономическом форуме в России анонсировали новые проекты, связанные с технологическим развитием и локализацией производства. По итогам ВЭФ-2026 было подписано 328 соглашений почти на 6,8 трлн рублей, в том числе по промышленным и инфраструктурным направлениям. Власти при этом подчёркивали необходимость ускоренного развития собственных технологий и снижения зависимости от зарубежных решений.

Главные открытия, исследования и заявления учёных — в разделе «Наука» на Life.ru.